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科輝鈦業(yè)官網(wǎng)

發(fā)布日期:2020-4-28 5:59:09


產(chǎn)品名稱 鈦及鈦合金靶塊,鈦餅
牌號/材質(zhì) TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)   
標準 鈦圓靶 :技術(shù)條件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97   鈦板靶 :技術(shù)條件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93 
規(guī)格 圓靶:常用規(guī)格:60/65/95/100*30/32/40/45mm     板靶:(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm      管靶: 70mm * 7mm/10mm 
表面 車光,可加螺紋
特性 重量輕,優(yōu)異的抗腐蝕性,防腐性,強度高,耐熱性好,延展性好,無毒性,無磁性,優(yōu)良的機械強度等。
狀態(tài) 退火態(tài)(M) 熱加工狀態(tài)(R) 冷加工狀態(tài)(Y)(退火,超生波探傷)
應(yīng)用 用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業(yè)

鈦餅、鈦靶塊材質(zhì)要求

純度

純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

鈦靶塊

雜質(zhì)含量

靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

密度

為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一。

鈦餅

品名 純度 密度 鍍膜優(yōu)勢色 形狀 常規(guī)尺寸 應(yīng)用行業(yè)
鈦鋁(TiAl)合金靶 2N8-4N 3.6-4.2 玫瑰金/咖啡金 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鉻(Cr)靶 2N7-4N 7.19 白色/黑色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鈦(Ti)靶 2N8-4N 4.51 金黃色/槍黑色/ 藍色/玫瑰紅 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鋯(Zr)靶 2N5-4N 6.5 金色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鋁(Al)靶 4N-5N 2.7 銀色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鎳(Ni)靶 3N-4N 8.9 金屬本色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
鎳釩(Nir)靶 3N 8.57 藍綠色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鈮(Nb)靶 3N 8.57 白色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
純鉭(Ta)靶 3N5 16.4 黑色/紫色 圓柱形 直徑 60/65/95/100*30/32/40/45mm 裝飾/工具
2. 標準值 
化學(xué)成分參考標準
牌號 Al V N≤ C≤ H≤ Fe≤ O≤ 其他元素(單一) 其他元素(總和)
TA1     0.03 0.08 0.015 0.20 0.18 0.1 0.40
TA2     0.03 0.08 0.015 0.30 0.25 0.1 0.40
TC4 5.5-6.75 3.5-4.5 0.05 0.08 0.015 0.30 0.20 0.1 0.40
機械性能參考標準
牌號 室溫下力學(xué)性能,不小于
抗拉強度 屈服強度 伸長率 斷面收縮率
TA1 240 MPa 170MPa 25% 30%
TA2 345MPa 275 MPa 20% 30%
TC4 895MPa 825 MPa 10% 20%


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